荷兰公布半导体设备管制措施！限制DUV光刻机出口到中国

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6月30日，荷兰政府正式公布最新半导体设备管制措施，要求先进芯片制造设备业者，出口DUV（深紫外光）光刻机都必须申请许可，虽然相关管制措施没有提到中国或ASML，但是相当于限制ASML的DUV光刻机出口到中国，并预计管制措施将在9月1日生效。

荷兰外贸部长施莱纳马赫表示 ，荷兰政府采取半导体设备管制措施，主要是出于国家安全考量，受影响的企业现在知道自己的立场是件好事，因为这样就能及时适应新的规定。

荷兰政府祭出最新半导体设备管制措施，虽然具体没有提到中国或ASML，但是因为ASML是半导体供应链关键厂商，几乎垄断先进芯片制造设备的市场，因此管制措施要求ASML出口DUV光刻机到中国都必须事先申请许可，等于限制ASML三种型号的曝光机出售给中国。

管制措施锁定的是ASML三款DUV光刻机，型号为TWINSCAN NXT：2000i、NXT：2050i和NXT：2100i，属于ASML第二先进的设备 ，而最先进的极紫外光光刻机（EUV）已在今年3月限制对中国出口。

管制措施的消息冲击ASML 股价一度跌逾2% ，但是ASML之前就有发表声明表示，未来ASML要出口最先进的DUV设备时都必须向政府申请许可，而相关措施对2023 年度，甚至更长期的财务展望，并不会有重大的影响。