国产光刻机挑战ASML市场份额

只要中国没有的技术，我们都要进行封锁，这就是横行霸道、蛮不讲理的美国一贯作风。眼看着中国准备自研光刻机技术时，美国又跳了出来，与荷兰以及日本在召开国际会议时，针对半导领域达成一致协议，禁止向中国提供EUV光刻机与DUV光刻机。

(相关资料图)

目前市场光刻机基本上来自ASML、Nikon、Canon三家企业，简单来说就是被荷兰和日本垄断了光刻机市场，其中ASML占据全球市场销售的8成以上。

同时，ASML是全球唯一一家能够生产出高精密度光刻机的公司，单从产品和价格来看高于其他企业，所以又被称为光刻机中的龙头老大，在EUV光刻机100%的市场份额，处于垄断地位。

而我国对光刻机的需求量日益趋增，每年多次购买ASML生产的光刻机，由于我国半导体行业的发展，两国本来合作的好好的，ASML也能靠着中国的订单大捞一笔，但面对美的指令，ASML不敢不从，机器也量产了，钱也赚不到了。

在设备被封锁的情况下，买不到我们就自己造，这一言论遭到了ASML工程师的嘲讽，就算是把图纸给你们，你们也造不出更好的光刻机，但随着中国对高科技的人力和财力的投资，短短几年时间内，我们实现90纳米光刻技术、65纳米、55纳米、以及28纳米等多个技术的光刻机，其中90纳米、28纳米已经实现了量产。

除此之外，国产EUV光刻技术的三个关键技术，也都有了突破性的进展。

第一项技术由长春光机所研制出 EUV光刻机的高精度弧形反射镜系统，由于镀膜装置被禁止售卖后，这项生产技术也被搁置，所幸在中科院的研发下，国产0.1nm镀膜装置被成功运用在长春光机所研制的产品上。

第二项技术在国内顶尖高校、国防七子之一的哈工大支持下，成功研制出真空用超高精度激光干涉仪，各项指标跟ASML相差不大，满足EUV真空双工件台对高速超精密激光干涉仪的精度要求。

最后一项EUV光源系统，也是光刻机核心的核心，这个技术目前只有美国能够造出来，但随着我国科研人员的能努力下，长春光机所再次突破技术难题，成功研发出EUV光源。

制造EUV光刻机的所有关键技术，已经被中国全部实现了，此时ASML坐不住了，对中国的态度发生改变，先是公开指责我们偷走了他们的核心机密，然后在ASML总裁温宁克访华时，中国自研光刻机是在破坏全球产业链，最后ASML CEO表示：绝不能失去中国市场，哪怕有美国禁令，也要不顾一切的向中国出售光刻机。

在美、日、荷三国的联手封锁下，我国突破逆境、扭转乾坤，成功将光刻机技术牢牢掌握在手中，也是一次次技术的突破，让我们明白了，中国不再是任人宰割的中国，我们的爆发是西方国家无法承受的。

这些年来，中国超过美国的技术足以证明我国的发展走在国际前沿时刻，例如特高压输电技术、高铁技术、通信5G技术、钢铁技术、稀土提炼技术，以及生物制造技术。

目前我国光刻机正向7nm、5nm、3nm的工艺迈进，我们相信，迟早有一天国产光刻机的技术会达到世界顶级水平。

十年磨一剑，宝剑锋从磨砺出，在我国众多科研人员的努力下，我国不仅在半导体技术、通信技术、高铁技术、莱特惟键生物技术上追赶西方国家，更要在更多的领域中去超越西方国家。