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北京科技大学新材料技术研究院、北京材料基因工程高精尖创新中心的研究团队设计一种新型的层状结构材料，采用一种简单的溶液外延生长方法，获得超薄（低至1nm）铋氧化物薄膜，并稳定呈现出高的宏观铁电性能。研究成果以“Ferroelectricity in layered bismuth oxide down to 1 nanometer”为题，于2023年3月24日发表在《Science》期刊上。北京科技大学为第一研究单位，新材料技术研究院博士研究生杨倩倩为本论文的第一作者，张林兴教授和田建军教授为通讯作者，本工作得到了邢献然教授和陈骏教授等人的指导。
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