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【资料图】

长风破浪会有时，直挂云帆济沧海。

近日，中国国产EUV（极紫外）光刻机取得了一项“炸裂性”突破，迅速吸引了全球科技界的关注。 作为半导体制造领域的关键技术，EUV光刻机在全球范围内一直被视为高科技产业的重要标志。这次突破的取得，不仅为中国半导体产业的自主创新奠定了基础，还为全球产业链的多样化发展提供了新的可能性。今天就一起来了解下相关信息。

背景

1.光刻技术的发展历程

光刻技术是半导体制造过程中的核心环节，它的发展直接影响着整个半导体产业的技术水平。从1950年代的光刻技术诞生以来，光刻技术已经经历了光学光刻、草编蒙光刻、光致抗蚀刻蚀剂（i-line）光刻、光致抗蚀刻蚀剂（KrF）光刻等多个阶段，每一次技术革新都使得半导体制程工艺的微缩度得到显著提升。

2.EUV光刻技术的重要性

随着半导体工艺不断推进，传统光刻技术已经逐渐无法满足更高制程要求。EUV光刻技术作为新一代光刻技术，以其更短的波长和更高的光刻精度，为实现半导体制程的进一步微缩提供了可能。然而，EUV光刻技术的研发难度极高，世界范围内仅有荷兰ASML等少数企业掌握该技术。

中国国产EUV光刻机的突破

前不久，哈工大正式官宣，该校的科研团队成功研制出高速超精密激光干涉仪， 该激光干涉仪用于350nm到28nm工艺光刻机的集成研制和性能测试， 解决了国内相关领域测不精、测不快和测不准的难题，对国产光刻机有着积极地推动作用！

上海微电子DUV光刻机国内企业生产线、哈工大突破两项光刻机核心技术，在国际上引起了广泛的关注与讨论。美媒甚至发文感慨道：中国的这群科学家太可怕了，他们仅用了几年时间就走完了西方几十年才走完的路！

1.炸裂性突破的具体内容

中国国产EUV光刻机在关键技术方面取得了突破，主要包括光源技术、光学系统和控制系统等方面。其中，光源技术是EUV光刻机的核心，中国成功研发出具有稳定输出功率的高亮度光源，实现了光源技术的自主创新。

此外，光学系统和控制系统的突破也为国产EUV光刻机的整体性能提升提供了保障。 中国国产EUV光刻机的成功研发，使得中国成为继荷兰ASML之后，全球第二个掌握EUV光刻技术的国家。

2.中国国产EUV光刻机的发展过程

中国国产EUV光刻机的研发始于十多年前。在政府的支持下，中国科研团队克服重重困难，从基础理论研究到关键技术攻关，最终实现了国产EUV光刻机的突破。这一过程中，中国政府和企业的投入和决心可见一斑。

3.国产EUV光刻机的市场前景

国产EUV光刻机的成功研发，将为中国半导体产业带来巨大的市场机遇。在全球半导体产业链日益紧张的背景下，中国国产EUV光刻机的问世无疑为全球客户提供了更多选择。此外，国产EUV光刻机的成功研发还将推动中国半导体产业的上游配套产业发展，形成完整的国产半导体产业链。

国产EUV光刻机与ASML的对比

荷兰的ASML是世界光刻机巨头，几乎垄断了世界上大部分光刻机业务。荷兰ASML的EUV光刻机的制造是离不开世界上许多国家的供应链的，比如日本的索尼提供光源技术、三星电子为其提供细小的零部件......

我们国产的EUV光刻机由于受到美国的打压，所以我们只能走自主供应链模式，而且中国也是世界上最大的工业国家。国产EUV光刻机与ASML的不同在于供应链的不同，我们拥有自主、稳定的供应链。

总之，随着中国国产EUV光刻机的不断成熟和推广，中国将更加积极地参与全球半导体产业竞争，为世界经济发展贡献更多的力量。同时，这也将有助于提高中国半导体产业的国际地位和影响力，为中国在全球科技竞争中赢得更多话语权。

外媒评价及影响

1.外媒的评价

中国国产EUV光刻机的突破引起了外媒的高度关注。一些外媒评价称：“中国这群人太可怕了”，意味着中国在高科技领域的实力令世界惊叹。此次突破被视为中国半导体产业迈向全球顶尖水平的重要标志。

2.对全球半导体产业的影响

中国国产EUV光刻机的突破对全球半导体产业产生了深远的影响。首先，这一突破有望打破长期以来荷兰ASML在EUV光刻领域的垄断地位，促进全球产业链的多样化发展。其次，中国国产EUV光刻机的成功研发将推动全球半导体产业进一步发展，为消费电子、人工智能、物联网等领域提供更强大的技术支持。

从而也能打破美国主导的世界半导体产业格局，使得世界半导体的发展与供应链不再由某一个国家说了算。使得世界各国发展机会均衡，不再受限与单个国家。

3.对中国半导体产业的意义

中国国产EUV光刻机的“炸裂性”突破标志着中国在半导体制造领域迈出了重要一步。这一突破不仅为中国半导体产业的自主创新奠定了基础，还为全球产业链的多样化发展提供了新的可能性。在未来，我们有理由相信，中国将继续在半导体领域取得更多的突破，推动全球半导体产业迈向新的高峰。

总之，打破国外技术封锁是必然的结果，以美国为首的对华科技打压计划终将破产。中国再EUV上所取得的突破某种意义上来说是美国推动的，打压我们，我们必须自谋生路。中国从不是想要以科技来称霸全球，以科技引领中国发展，人民走向幸福才是最终目的。

结论

中国国产EUV光刻机的“炸裂性”突破具有重要的意义，它不仅展示了中国在高科技领域的实力，更为全球半导体产业的发展带来了新的活力。在未来的科技浪潮中，我们期待着中国在更多领域实现突破，为人类科技进步贡献智慧和力量。

在未来，我们一定可以摆脱由于芯片带来的发展限制，不再受到美国的科技霸权影响。拥有自主知识产权，发展不再局限于他人，走上发展的快车道。你觉得西工大此次取得的突破如何呢？欢迎留言评论