荷兰正式官宣新决定，外媒：ASML不想看到的是事情还是发生了-当前动态

为了将“中国芯”锁死在14nm，美国不断修改半导体行业规则，且在几个月前与日本、荷兰签署“三方协议”，加强高端半导体技术和设备的对华出口管控。一旦协议正式落地实施，尽管ASML公司不愿意失去中国这个巨大的市场，坚持向中企出售部分型号的光刻机，但受规则限制影响，ASML公司只能向我国出售1980i及之前的型号的光刻机，单次曝光的精度只有38nm。

“三方协议”签订后，ASML公司总裁紧急访华，且向我国高层明确表示，该公司将会加强在中国市场的投入，且将会优先向中国客户供货等。除此之外，荷兰方面也明确表示，“三方协议”所带来的影响正在评估中，落地时间未定，ASML公司依然可以向中国客户出售部分型号的光刻机，可用于汽车芯片等产品的生产制造。

为此，ASML公司做出一个重要决定，今年将会在我国市场开放覆盖光刻机、计算光刻和量测业务三大业务线的200个客户支持工程师、软件开发工程师及职能部门的岗位。

(资料图片仅供参考)

然而，让所有人没想到的是，在6月底，荷兰方面突然宣布，将限制2000i及后续型号DUV光刻机的出口，虽然在声明中没有“点名”中国，但明眼人都知道，荷兰的这个决定就是在在帮助美国锁死“中国芯”。

荷兰限制部分型号光刻机的决定一经公布，瞬间在国际上引起轩然大波，多家美媒发文表示：拜登高兴坏了，可这绝不是ASML公司想要的结果，一旦处理不好，这个垄断世界EUV光刻机行业的半导体巨头将会由强盛走向衰落！

美媒并不是在危言耸听，而是毫不违言的道出了这个政策将会给ASML公司带来多大的灾难。

首先，大陆市场是ASML公司第三大市场，虽然只能向中企出售一些中低端DUV光刻机，但也曾占其营收的14％以上，即便是这几年由于不能自由地向中企供货，但在我国市场的份额也有8％。

如今，ASML公司只能向我国出售单次曝光精度只有38nm及以上的DUV光刻机，必将会倒逼中企选择国产光刻机。要知道，上海微电子生产的光刻机，经过多重曝光工艺的处理，可用于14nm制程工艺芯片的制造生产。

据相关统计数据显示，国产光刻机的在国内的市场份额高达80％，国际市场份额超过了40％。

其次，在中国科学家的努力下，高端光刻机的壁垒技术不断被突破，如中科院不但掌握了目前最先进得EUV光源技术，更是打造出了原型机。且国资委明确表示将今后的工作重心转移至光刻机等重资产行业。

对于国产光刻机的快速崛起，ASML公司总裁曾向美国发出警告，如果不将光刻机卖给中国，五年之内，中国一定会掌握所有的光刻机技术，十五年之后，ASML公司将失去中国市场。由此可见，国产光刻机给ASML公司带来了多么大的压力。

第三，我国在量子芯片和光子芯片领域保持着世界领先水平，而一旦这两种芯片实现规模商用，EUV光刻机在高端芯片制造领域的影响力将会急速下滑，且中芯国际等国内芯片制造企业正在研发新型芯片制造技术，降低了对高端光刻机的依赖。

最后，笔者想说的是，国内科技企业要想摆脱被西方国家鱼肉的命运，中国科技要想实现彻底崛起，就必须加大科研投入和人才的培养，真正的掌握核心技术，拥有行业话语权。同时也希望国内一些“买办”企业能够撕下“组装厂”的标签，走上自研化道路，为我国科技产业的发展贡献力量。支持的请点赞！